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低溫(wēn)等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝(zhuāng)置是利用這些高能電子、自由基等活性粒(lì)子(zǐ)和廢氣中的汙染物作用(yòng),使汙染物分子在短的(de)時間內發生(shēng)分解,以達到降(jiàng)解汙(wū)染物的目的的一(yī)種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用(yòng)範圍

產品概(gài)述 Product description

產(chǎn)品概述

低溫等離子除(chú)臭設備是利用這些高能(néng)電子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一(yī)種環(huán)保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經(jīng)均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產生(shēng)1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由(yóu)於鍵能較弱,約束力較小(xiǎo)。很(hěn)容易被(bèi)擊穿化學(xué)鍵破裂,從(cóng)而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的(de)水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生(shēng)成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧(yǎng)化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加(jiā)快反應進程。整(zhěng)個反應(yīng)幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高(gāo)。

等離子功能段可以激發汙染物能量(liàng),促使長鏈(liàn)、多鏈汙染物分子的分(fèn)子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離(lí)子體(tǐ)化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等(děng)離子體反應過程可以看出,電子(zǐ)先從電場獲得能量(liàng),通過激(jī)發或電離將能量轉移到汙染物分子(zǐ)中去,那些獲得能量的汙染(rǎn)物(wù)分子被(bèi)激發,同時有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團(tuán)。然後這些活性基團與氧(yǎng)氣、活性基團與(yǔ)活性基團之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產(chǎn)物和(hé)熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力(lì)較強(qiáng)的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好(hǎo)的化學活性,在化學反應中(zhōng)起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介(jiè)質(zhì)阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和(hé)所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢(fèi)氣不直(zhí)接接(jiē)觸,根本上解決了設備腐蝕問(wèn)題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作簡單,無需派專職人員看守,基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分(fèn)迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料(liào)加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用(yòng)範圍

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