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等離子除臭設備

等離子除臭設備(bèi)

等離子除臭設備是(shì)利用這些(xiē)高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用(yòng),使汙染物分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理(lǐ)
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用範圍

產(chǎn)品概述(shù) Product description

產品概述

等離子除臭設備是(shì)利用這些高能電子、自由基等(děng)活(huó)性粒子和廢氣中(zhōng)的(de)汙染(rǎn)物作用,使(shǐ)汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。




技術原理 technology principle

產品(pǐn)概述(shù)

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此(cǐ)階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化(huà),加快反應進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用率(lǜ)高,淨化效率非(fēi)常高。

等離子功(gōng)能段可以激(jī)發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分(fèn)子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物(wù)降解為較易處理(lǐ)的低碳汙染物。








等離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電(diàn)場獲得能(néng)量,通過激發或(huò)電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從(cóng)而(ér)成為(wéi)活性(xìng)基團。然後這(zhè)些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團(tuán)之間相(xiàng)互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子(zǐ)也能被鹵素和氧氣(qì)等電子(zǐ)親和力較強的物質俘(fú)獲,成為負離子。這類負離子具有很好(hǎo)的化學活性,在化學反應中起著重要的作(zuò)用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介(jiè)質阻擋放(fàng)電產生的(de)低溫等離子體中,電子能量高,幾乎(hū)可以和所有的惡臭氣(qì)體分子作用(yòng);

  • 02

    反應快(kuài),不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐(fǔ)蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作簡(jiǎn)單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設(shè)備啟動、停止十(shí)分迅速,隨用隨開(kāi),不受氣溫(wēn)的影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及(jí)製藥廠(chǎng)、油漆廠、塗(tú)料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工業場所(suǒ)。

UV光解廢氣淨化(huà)設備適用範圍

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