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低溫等離子除臭設備

低溫(wēn)等離子除臭設(shè)備

低溫等離子除臭(chòu)設備是利用這些高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣(qì)中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間(jiān)內發生(shēng)分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一(yī)種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品(pǐn)概述(shù)

低溫等離子除臭設備是利用這些高能電子(zǐ)、自(zì)由基等活性粒子和廢氣(qì)中(zhōng)的汙染物作用,使汙(wū)染物分子在短的時(shí)間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經(jīng)均流板過濾棉進入設備時,由設(shè)備高壓穩定高頻放電,瞬(shùn)間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此(cǐ)階段中,長鏈、多(duō)鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而(ér)變成小(xiǎo)分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的(de)水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生(shēng)成強氧化(huà)基團羥基、臭氧分子等。這些(xiē)強氧化基團(tuán)與廢(fèi)氣分子充分(fèn)接觸氧化,加(jiā)快反應進程。整個反應(yīng)幹淨(jìng),能量利用率高(gāo),淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激(jī)發汙染物能量,促使長鏈(liàn)、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反(fǎn)應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離(lí)子體反應過程可以看出,電子(zǐ)先從電場(chǎng)獲得能量,通過激發或電離(lí)將(jiāng)能量轉移到汙染物分子中去,那(nà)些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互(hù)碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親(qīn)和力較強的物(wù)質俘獲,成為負(fù)離(lí)子。這類負(fù)離子具有很(hěn)好的化學活性,在化學反應(yīng)中(zhōng)起著重要的作(zuò)用。






性能(néng)優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的(de)低溫等離子體(tǐ)中,電子能量高,幾乎可以和所(suǒ)有的惡臭氣體分子作(zuò)用;

  • 02

    反(fǎn)應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不(bú)直接接觸,根本上解決了(le)設備腐蝕(shí)問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十(shí)分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設(shè)施,以及製(zhì)藥廠、油漆廠、塗料廠、皮(pí)革廠(chǎng)、石油(yóu)化(huà)工、農(nóng)藥廠、製藥廠、印刷廠、造(zào)紙廠、飼料加工廠等等(děng)工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範圍

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