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等離子除臭設備

等離子除臭設(shè)備

等離子除臭設備是利用這(zhè)些高能電子、自由基等活性粒(lì)子(zǐ)和廢氣中的(de)汙染物作用,使汙染(rǎn)物分子在短的(de)時(shí)間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用(yòng)範圍

產(chǎn)品概述 Product description

產品概述

等離子(zǐ)除臭設備是利用這些高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物作用(yòng),使汙染(rǎn)物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的(de)目的的一種環保設備。




技術原(yuán)理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊穿(chuān)廢氣(qì)。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分(fèn)子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被(bèi)擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此(cǐ)為第(dì)一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的(de)水分子、氧(yǎng)分子被高壓擊穿斷裂(liè),生成強氧(yǎng)化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應(yīng)進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化效率(lǜ)非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為(wéi)較(jiào)易處理的低碳汙染物。








等離子體(tǐ)化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體(tǐ)反應過程可以看出,電子先從電場獲得(dé)能量,通過激發或(huò)電離(lí)將能量(liàng)轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物(wù)分子被激(jī)發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從而成(chéng)為活性(xìng)基團。然後(hòu)這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能(néng)被鹵素和氧氣等電(diàn)子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成(chéng)為負離子(zǐ)。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反(fǎn)應中起(qǐ)著重要(yào)的(de)作用。






性能優勢(shì) Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫(wēn)等離子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢(fèi)氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電(diàn),操作簡單(dān),無(wú)需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等(děng)市政設施,以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料(liào)廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥(yào)廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所(suǒ)。

UV光解廢氣淨化設備適(shì)用範圍

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