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低溫等離子除臭設備

低溫等離（lí）子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用，使汙染物分（fèn）子在短的時間內發生分解，以達（dá）到降解汙染物的目的的一種環保設（shè）備。

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產品（pǐn）概述（shù）
技術原理
性能優勢
適用範圍

產品概述 Product description

低溫等離子除臭設備是（shì）利用這（zhè）些高能（néng）電子、自由基等活性（xìng）粒子和廢氣中的汙染物作用，使汙染（rǎn）物分（fèn）子在短的時間內發生分解（jiě），以達到降解汙染物的目的的一種環（huán）保設備。

技術原（yuán）理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉進入（rù）設備時，由設備高壓穩（wěn）定高頻放電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿（chuān）廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分子由（yóu）於鍵（jiàn）能較弱，約束力較小（xiǎo）。很容易被擊（jī）穿化學鍵破裂，從而（ér）變成小分子化合物，此（cǐ）為第一階段淨化。

其次，隨廢氣進入設（shè）備的水（shuǐ）分子、氧（yǎng）分子（zǐ）被高壓擊穿斷裂，生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些（xiē）強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧（yǎng）化，加快（kuài）反應進程。整個反應幹淨，能量（liàng）利用率高，淨（jìng）化效率非常高。

等離子功能（néng）段可以激發汙染物能量，促使長鏈、多鏈汙染物分（fèn）子的分子鍵斷裂重組，使難處理的汙（wū）染物降解為較易處理的低碳汙染物。

等離子體化學反應過程（chéng） Plasma chemical reaction process

從等離子體反應過程可以看出，電子先從電場獲得（dé）能量（liàng），通過激（jī）發或電（diàn）離將能量轉移到汙染物（wù）分子（zǐ）中去，那些獲得能量的汙染物分子被激發，同時有部分分子被電離，從而（ér）成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外，高能（néng）電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲（huò），成為負（fù）離子。這類負離子具有很好的化學活性，在化（huà）學（xué）反應中起著重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放（fàng）電產（chǎn）生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和（hé）所有的惡臭氣（qì）體分子作用;
02

反應快，不受氣速限製，氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料（liào），電極與（yǔ）廢氣不直接接（jiē）觸（chù），根本上解決了設備腐蝕問題；
04

隻需用電，操（cāo）作簡單，無需派專（zhuān）職人員看守，基本不占（zhàn）用人工費；
05

設備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，不受（shòu）氣溫的（de）影響。

適用範圍 Scope of application

垃（lā）圾、汙水廠等市政設（shè）施，以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石（shí）油（yóu）化（huà）工、農（nóng）藥廠、製藥廠、印刷廠、造（zào）紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

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