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低溫等離子除(chú)臭設備

低溫(wēn)等離子除臭設備

低溫等離子除臭設備是利用這(zhè)些高(gāo)能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分子在短的時間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的目的(de)的一種環保(bǎo)設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭(chòu)設備是利用這(zhè)些高能電子(zǐ)、自(zì)由基(jī)等活性粒子和(hé)廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的(de)的(de)一種環保設備。



技術原(yuán)理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過(guò)濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓,擊(jī)穿(chuān)廢氣(qì)。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊(jī)穿化學鍵(jiàn)破(pò)裂,從而變成小分子化合物(wù),此為第一(yī)階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分(fèn)子、氧分子被高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強(qiáng)氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個(gè)反應幹淨,能量利用率高(gāo),淨化效率非常高。

等離子功能段可以激(jī)發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分(fèn)子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降(jiàng)解為較易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離子體反應過程可以看出,電子先(xiān)從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去(qù),那些獲得能(néng)量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基(jī)團與(yǔ)氧氣、活性基團與活性基團(tuán)之間相互碰(pèng)撞後(hòu)生成穩定產物和熱。

另(lìng)外,高能電(diàn)子(zǐ)也能(néng)被鹵(lǔ)素和氧(yǎng)氣等電子親和力較(jiào)強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具(jù)有很好的化學活性,在化(huà)學反(fǎn)應中(zhōng)起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產(chǎn)生的低溫等離子體中,電子(zǐ)能量高,幾乎(hū)可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設(shè)備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作簡單,無需派專職人員看守,基(jī)本不占用人(rén)工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水廠等市政設(shè)施,以(yǐ)及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石(shí)油(yóu)化工、農(nóng)藥廠、製藥廠、印刷廠、造(zào)紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨(jìng)化設備適用範(fàn)圍

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