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低溫等離子除臭裝置

低溫等（děng）離子除臭（chòu）裝置是利用這些（xiē）高能電子、自由基等活性粒子和廢（fèi）氣中的汙染物（wù）作用，使汙染物分子在（zài）短的（de）時間內（nèi）發生分解，以達到（dào）降解汙染物的目的的一種環（huán）保設備（bèi）。

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產品概述 Product description

低溫等（děng）離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子（zǐ）和廢氣中的汙（wū）染物作用，使汙染物分（fèn）子在短的時間內發生分解，以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

技（jì）術原理 technology principle

　　首先廢氣經均流板過濾棉（mián）進入設備時，由設備高壓穩定高頻放（fàng）電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高（gāo）壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣（qì）分子由於鍵能較弱，約束（shù）力較小。很容易被（bèi）擊穿化學鍵破裂，從而（ér）變成小分子化合物（wù），此為第一（yī）階段（duàn）淨（jìng）化（huà）。

其次，隨廢氣進入設（shè）備的水分子、氧分子被（bèi）高壓擊穿斷裂，生成強氧化基團羥基、臭（chòu）氧分（fèn）子等。這（zhè）些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化，加快反應進程。整個反應幹淨，能量利（lì）用率（lǜ）高，淨化效率非常高（gāo）。

等離子功能段可以（yǐ）激發汙（wū）染物能量，促使長鏈、多（duō）鏈汙染物分子的分子鍵斷裂（liè）重組，使（shǐ）難處理的汙染物降解為較（jiào）易處理的低碳汙染物。

等（děng）離子體化（huà）學反（fǎn）應過程 Plasma chemical reaction process

從等離子體反應過程可以看出，電子先從電場獲（huò）得（dé）能量，通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去，那些獲得能量的汙染物分子被激發，同時有部分分子被電離，從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性（xìng）基團與活性基團之間相（xiàng）互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外，高能電子也（yě）能被鹵（lǔ）素和（hé）氧氣等電子親和力較強的物質俘獲，成為負離子。這（zhè）類負離子（zǐ）具有很好的（de）化學活性（xìng），在化學反應中起著（zhe）重要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生（shēng）的低（dī）溫等離子體中，電子能量高（gāo），幾（jǐ）乎可以和所有的惡臭氣體分（fèn）子作用;
02

反應快（kuài），不受（shòu）氣速限製，氣阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設備腐蝕問題；
04

隻需用電，操作簡單，無（wú）需派專職人員看守（shǒu），基本不占用（yòng）人工費；
05

設（shè）備（bèi）啟動、停止十分迅速，隨用隨開，不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水（shuǐ）廠等市政設施，以及製（zhì）藥廠、油（yóu）漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印（yìn）刷廠、造紙（zhǐ）廠、飼料（liào）加工廠等等工業場所。

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