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低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除(chú)臭裝置是利用這些高(gāo)能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時間內發(fā)生分解(jiě),以達到降解汙染物(wù)的目的(de)的一種環保(bǎo)設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性(xìng)能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這(zhè)些高能電子、自由基等活性粒子(zǐ)和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分(fèn)解,以達(dá)到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板過濾棉進入設備時(shí),由設備高壓穩定高頻(pín)放(fàng)電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢(fèi)氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能(néng)較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從(cóng)而變成小分子(zǐ)化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備(bèi)的水分(fèn)子、氧分子被高(gāo)壓(yā)擊穿斷裂,生成強(qiáng)氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化(huà),加(jiā)快(kuài)反應(yīng)進程。整個反應(yīng)幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化效率非常(cháng)高。

等離子功能(néng)段可以激發汙染物(wù)能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂(liè)重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體(tǐ)反應過程可以看(kàn)出,電子先從電場獲(huò)得能量,通過激發或電離(lí)將(jiāng)能(néng)量轉移到汙(wū)染物分子中(zhōng)去,那些獲得能量的(de)汙(wū)染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後(hòu)這些活性(xìng)基團與氧氣、活性基團與活性基團之(zhī)間相互碰撞後(hòu)生成穩定(dìng)產物(wù)和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強(qiáng)的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起(qǐ)著重(chóng)要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質(zhì)阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接接(jiē)觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需(xū)派專職人員看(kàn)守(shǒu),基本不占用人(rén)工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用(yòng)隨開(kāi),不受(shòu)氣(qì)溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化(huà)工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等(děng)工業場所。

UV光解廢氣淨化設(shè)備適用範(fàn)圍

在線留(liú)言

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