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離(lí)子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設備是利用這些高(gāo)能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物(wù)的目的(de)的一種環(huán)保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能(néng)優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子除臭設備是利用這些高能(néng)電子、自由基(jī)等(děng)活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙(wū)染(rǎn)物分子在短的時間內發生分解,以達(dá)到(dào)降解汙染(rǎn)物的目的的一種環(huán)保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進(jìn)入(rù)設備時(shí),由設備高壓穩定(dìng)高頻放電,瞬間產生(shēng)1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中(zhōng),長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂(liè),從而變成小分(fèn)子(zǐ)化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧(yǎng)化基團羥基、臭氧(yǎng)分子等(děng)。這些(xiē)強氧(yǎng)化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加(jiā)快(kuài)反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離(lí)子功能段可以激發汙染(rǎn)物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子(zǐ)的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易(yì)處(chù)理的低碳汙染物。








等(děng)離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子先從(cóng)電場獲得能(néng)量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能(néng)量的汙染物分(fèn)子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基(jī)團。然後這些(xiē)活性基團與氧氣、活性基(jī)團與活性(xìng)基團之間(jiān)相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離(lí)子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要(yào)的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放(fàng)電產生的低溫等離子體中,電子能量(liàng)高,幾(jǐ)乎可以和所有的惡臭氣體分子作(zuò)用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢(fèi)氣不直接接觸,根(gēn)本(běn)上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需(xū)派專職人員看守,基本不占用人工(gōng)費;

  • 05

    設備啟動(dòng)、停(tíng)止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影(yǐng)響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設(shè)施,以及製(zhì)藥廠、油漆廠、塗料廠(chǎng)、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠(chǎng)、造紙廠、飼料加工廠(chǎng)等等工業場所。

UV光解廢氣淨化(huà)設備適用範圍

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