1.UV光解廢氣處理器簡述

UV光解（jiě）廢氣處理器是指利用高能UV紫外線（xiàn）光束分解空氣中的氧分（fèn）子產生（shēng）遊離氧（即活性氧），因遊離氧（yǎng）所攜帶正負電子不平（píng）衡所以需與（yǔ）氧分子結合，進而產生臭（chòu）氧，臭氧具有（yǒu）很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使（shǐ）有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳（tàn）。

2.UV光解廢氣處理技術原理

（1）利用特製的高（gāo）能UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫（liú）、二硫化（huà）碳和苯乙烯（xī），硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子（zǐ）惡臭（chòu）化（huà）合物分子鏈，在高（gāo）能紫外線光束照射下，降解轉變（biàn）成低分子化合物，如CO2、H2O等。

（2）利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧，即活性氧，因遊離氧（yǎng）所攜帶正負（fù）電子不平衡所以需與氧分子結合，進而（ér）產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭（chòu）氧對有機（jī）物（wù）具有很強的氧化作用（yòng），對惡臭氣體及其它（tā）刺激性異味有立竿見影的清除效果。

（3）有（yǒu）機廢氣（qì）、惡臭（chòu）氣（qì）體利用排（pái）風設備輸入到UV光（guāng）解廢氣淨化設備後（hòu），UV光解廢氣淨化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧（yǎng）對惡臭氣體（tǐ）進行協同分解氧化反應（yīng），使惡臭氣體物質其（qí）降解（jiě）轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通（tōng）過排風管道排出室外。

（4）利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細（xì）菌的分子鍵（jiàn），破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進行（háng）氧化反應，徹底達到有（yǒu）效脫臭及殺滅細菌（jun1）的目的。

3.UV光解廢氣處理器優勢

（1）高效除（chú）惡臭：能高效去除揮發性（xìng）有機物(VOC)、無機（jī）物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主（zhǔ）要汙染（rǎn）物，以及各種惡臭味氣體，脫臭效率（lǜ）可達到95%以上，脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭汙染物（wù）排放標準(GB14554-93)和（hé）1996年頒布的《大氣汙染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

無需預（yù）處理：有（yǒu）機（jī）氣體無（wú）需進行特殊的（de）預處理，如加溫、加濕等（děng）,設備（bèi）工作環（huán）境溫度在-30℃－95℃之間（jiān），濕度在30%－98%、PH值在2-11範圍均可正常工作（zuò）。

（2）無需添加任何物（wù）質：隻需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體以及工業廢（fèi）氣通過UV光解廢氣淨化設備進行脫臭分解淨（jìng）化，無（wú）需添加任何物質參與化學反應。

（3）適應性強：可適（shì）應（yīng）中低濃度，不同工業廢（fèi）氣物質的脫（tuō）臭、淨化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可（kě）靠。

（4）運行成本低：無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，隻需作定期檢查，設備能耗低，設備風阻（zǔ）低<50pa,可節約大量排風動力能耗。

（5）安（ān）全可（kě）靠：因采用光解（jiě）原理，模（mó）塊采（cǎi）取隔（gé）爆處理，消除了安全隱（yǐn）患，防火（huǒ）、防爆（bào）、防腐蝕性能高，設備性能（néng）安全穩定，特別適用於采油(氣)田、石油化工、製藥等防爆要求高的行業。

4.UV光解廢（fèi）氣（qì）處理器應用範圍

印刷、印染、電子、塑料、塗料、噴塗、家具（jù）、橡膠、化工、造紙、皮革、製藥、食品（pǐn）加工、飼料、屠宰、汙水處理、垃圾分揀及中轉等行業及領域的惡臭氣體（tǐ）、工業廢氣的淨化處理。